Leírás
Az AMAT 0010-59787 PECVD reaktor egy leválasztókamra, amelyet arra terveztek, hogy vékony filmeket vagy rétegeket vigyen fel különféle elektronikus eszközökben és rendszerekben használt hordozókra. A rendszer kémiai gőzleválasztási (CVD) eljárást alkalmaz a kívánt filmanyag lerakódására a hordozó felületére.
Műszaki adatok
-
Reaktortípus: PECVD (plazmanövelt kémiai gőzleválasztás)
-
Aljzatbetöltés : Automatizált egyetlen betöltőkamra
-
Integrált modulok : Teljesítmény-, vákuum- és gázellátó rendszer
-
Leválasztási eljárás : Alacsony nyomású, alacsony hőmérsékletű CVD (LP-CVD)
-
Folyamatvezérlés: Grafikus interfész kiterjedt adatnaplózással
-
Működési ablak: Állítható hőmérséklet, nyomás és folyamatparaméterek
-
Feldolgozási gáz: Több reaktív gázt támogat
Jellemzők
-
Kamra kialakítása : A könnyen használható kamra kialakítás kiváló lerakódási egyenletességet és egyenletes rétegvastagságot tesz lehetővé az aljzat felületén.
-
Automatizálás és integráció : A reaktor automatizált be- és kirakókamrával, valamint integrált teljesítmény-, vákuum- és gázszállító modulokkal van felszerelve. Ez a kialakítás minimalizálja a szubsztrátum kezelési idejét, így rövidebb általános feldolgozási időt biztosít.
-
Magas folyamathőmérséklet : A kamra magasabb folyamathőmérsékletet tud elérni, mint a hagyományos termikus CVD-eljárások, ami lehetővé teszi jobb minőségű vékony filmek előállítását.
-
Felhasználóbarát kezelés : A rendszert egyszerű, intuitív kezelésre tervezték, könnyen navigálható grafikus felülettel és robusztus rendszerarchitektúrával rendelkezik.
-
Rugalmas feldolgozási paraméterek: A széles folyamatablak lehetővé teszi a felhasználók számára a hőmérséklet, a nyomás és egyéb paraméterek beállítását az adott lerakási igények alapján. Ez a rugalmasság támogatja a kiváló minőségű filmek széles választékának előállítását.
-
LP-CVD-eljárás: A reaktív gázellátó rendszer alacsony nyomású, alacsony hőmérsékletű CVD-t használ a szükséges vékony filmanyag felhordására a hordozó felületére. Az LP-CVD eljárás lehetővé teszi a felhasználók számára, hogy több reakcióképes gáz közül válasszanak, és beállítsák a gáz összetételét, így rendkívül speciális filmek készíthetők.
-
Egyenletes vékonyréteg-lerakódás: A kamra kialakítása rendkívül egyenletes filmlerakódást biztosít, és lehetővé teszi a precíz és megismételhető rétegvastagság-profilok kialakítását a hordozó felületén.
-
Folyamatvezérlés: A felhasználóbarát vezérlőkkel felszerelt rendszer kiterjedt adatrögzítési és folyamatszabályozási funkciókat kínál, biztosítva a folyamat biztonságát és az állandó, megbízható eredményeket.
Topbrands PLC Limited is a top supplier of genuine new PLC and DCS parts, serving over 50 countries globally. We offer high-quality products from renowned brands like Bently Nevada, Honeywell, ABB, and more. With our warehouse in China stocking up to 30,000 pieces, we ensure rapid delivery to meet urgent order needs while maintaining competitive pricing to save our customers' budgets. Learn more...
Contact Information