MATERIALI APPLICATI (AMAT) 0010-54703 ESC Endura MCA Puck da 300 mm

Descrizione

IlAMAT 0010-54703 è un sistema di planarizzazione chimico-meccanica (CMP) prodotto da Applied Materials. Il modello è noto come Reflexion LK.

Funzioni

• Planarizzazione chimico-meccanica: utilizzata principalmente nella produzione di semiconduttori per lucidare pellicole metalliche come rame e tungsteno su wafer di silicio.
• Controllo di precisione dello spessore e della qualità della superficie: il processo CMP consente un controllo preciso sullo spessore del film e ottiene una superficie liscia e piana, fondamentale per le prestazioni dei circuiti integrati.
• Ampia applicazione: il dispositivo è ampiamente utilizzato nella produzione di vari dispositivi a semiconduttore, inclusi microprocessori e chip di memoria.

Caratteristiche

• Capacità di lucidatura avanzata: dotato di un sistema avanzato di erogazione dell'impasto liquido, un sistema di condizionamento dei cuscinetti e un sistema di controllo del processo, che consente una lucidatura efficiente e precisa.
• Versatilità: in grado di elaborare wafer sia planari che modellati, offrendo elevata flessibilità per diverse esigenze di produzione.