AMAT 0041-75950 Reaktor Pemendapan Wap Kimia

Penerangan

AMAT 0041-75950 ialah reaktor Pemendapan Wap Kimia (CVD), direka bentuk sebagai reaktor pemanasan atau penyejukan yang dikawal suhu untuk pemendapan filem nipis. Ia digunakan untuk mendepositkan filem konformal dan seragam pada pelbagai substrat. Reaktor terdiri daripada ruang tindak balas yang disertakan dalam bekas bertutup vakum, membolehkan kawalan haba yang tepat dan pemindahan bahan yang cekap. Peralatan ini beroperasi dalam julat suhu dari suhu bilik hingga 1000°C, membolehkan pemendapan pelbagai bahan filem nipis.

Spesifikasi

• Model: 0041-75950
• Pengilang : Bahan Gunaan (AMAT)
• Jenis: Reaktor Pemendapan Wap Kimia (CVD).
• Julat Suhu: Suhu bilik hingga 1000°C
• Substrat Serasi: Silikon, nilam, kuarza, kaca
• Bahan Pemendapan: Silikon nitrida, silikon dioksida, aluminium nitrida dan banyak lagi
• Kaedah Pemanasan: Pengeboman elektron, pemanasan aruhan dan sumber lain

ciri-ciri

• Ruang Kawalan Suhu:Ruang tindak balas direka untuk kawalan haba yang tepat, menyokong kedua-dua fungsi pemanasan dan penyejukan untuk pemendapan filem yang optimum.
• Sistem Kawalan Gas: Unit kawalan gas menghantar jumlah gas yang tepat ke ruang tindak balas semasa proses pemendapan, memastikan kawalan yang tepat ke atas kualiti filem nipis.
• Sumber Pemendapan:Punca pemendapan menyediakan bekalan bahan terkawal ke ruang tindak balas, di mana ia didepositkan ke substrat.
• Penderia Pemanasan Serbaguna:Reaktor dilengkapi dengan penderia magnet yang dipanaskan atau disejukkan, mampu menggunakan pelbagai kaedah pemanasan seperti pengeboman elektron dan pemanasan aruhan.
• Keserasian Pelbagai Bahan:Reaktor direka bentuk untuk mendepositkan filem pada pelbagai substrat, termasuk silikon, nilam, kuarza dan kaca.
• Bahan Filem Nipis:Ia boleh mendepositkan pelbagai filem nipis seperti silikon nitrida, silikon dioksida dan aluminium nitrida, menjadikannya serba boleh untuk aplikasi yang berbeza.
• Reka Bentuk Mesra Pengguna:Reaktor mempunyai antara muka komputer yang intuitif dan menawarkan kedua-dua pilihan operasi automatik dan manual untuk kemudahan pengguna.
• Kawalan Tepat:Ia menyediakan kawalan yang tepat ke atas suhu, aliran gas dan kadar pemendapan, menjadikannya sesuai untuk pelbagai aplikasi dalam industri semikonduktor, optoelektronik dan fotomekanikal.
• Reka Bentuk Mekanikal Teguh: Dibina dengan bahan tahan lama dan reka bentuk mekanikal yang kukuh, reaktor memastikan operasi yang selamat dan boleh dipercayai.