AMAT 0041-75950 CReator de Deposição de Vapor Químico

Descrição

O AMAT 0041-75950 é um reator de Deposição Química de Vapor (CVD), projetado como um reator de aquecimento ou resfriamento com temperatura controlada para deposição de filmes finos. É usado para depositar filmes conformados e uniformes em vários substratos. O reator consiste em uma câmara de reação encerrada em um recipiente selado a vácuo, permitindo controle térmico preciso e transferência eficiente de material. Este equipamento opera em uma faixa de temperatura que vai da temperatura ambiente até 1000°C, permitindo a deposição de uma variedade de materiais de película fina.

Especificações

• Modelo: 0041-75950
• Fabricante: Materiais Aplicados (AMAT)
• Tipo: Reator de Deposição Química de Vapor (CVD)
• Faixa de temperatura: Temperatura ambiente até 1000°C
• Substratos compatíveis: Silício, safira, quartzo, vidro
• Materiais de Deposição: Nitreto de silício, dióxido de silício, nitreto de alumínio e muito mais
• Métodos de aquecimento: bombardeio de elétrons, aquecimento por indução e outras fontes

Características

• Câmara com temperatura controlada:A câmara de reação é projetada para controle térmico preciso, suportando funcionalidades de aquecimento e resfriamento para deposição ideal de filme.
• Sistema de controle de gás: Uma unidade de controle de gás fornece uma quantidade precisa de gás para a câmara de reação durante o processo de deposição, garantindo controle preciso sobre a qualidade do filme fino.
• Fonte de Deposição:A fonte de deposição fornece um fornecimento controlado de material para a câmara de reação, onde ele é depositado no substrato.
• Sensores de aquecimento versáteis:O reator é equipado com sensores magnéticos aquecidos ou resfriados, capazes de utilizar vários métodos de aquecimento, como bombardeio de elétrons e aquecimento por indução.
• Compatibilidade com vários materiais:O reator foi projetado para depositar filmes em uma ampla variedade de substratos, incluindo silício, safira, quartzo e vidro.
• Materiais de Filme Fino:Ele pode depositar uma variedade de filmes finos, como nitreto de silício, dióxido de silício e nitreto de alumínio, tornando-o versátil para diferentes aplicações.
• Design de fácil utilização:O reator apresenta uma interface de computador intuitiva e oferece opções de operação automatizada e manual para conveniência do usuário.
• Controle preciso:Ele fornece controle preciso sobre temperatura, fluxo de gás e taxas de deposição, tornando-o ideal para uma ampla gama de aplicações nas indústrias de semicondutores, optoeletrônicas e fotomecânicas.
• Design Mecânico Robusto:Construído com materiais duráveis ​​e um design mecânico sólido, o reator garante uma operação segura e confiável.