AMAT 0041-75950 Реактор химического осаждения из паровой фазы

Описание

AMAT 0041-75950 — это реактор химического осаждения из паровой фазы (CVD), спроектированный как реактор с нагреванием или охлаждением с регулируемой температурой для осаждения тонких пленок. Он используется для нанесения конформных и однородных пленок на различные подложки. Реактор состоит из реакционной камеры, заключенной в вакуумный контейнер, обеспечивающий точный температурный контроль и эффективную транспортировку материала. Это оборудование работает в диапазоне температур от комнатной до 1000°C, что позволяет наносить различные тонкопленочные материалы.

Технические характеристики

• Модель: 0041-75950
• Производитель: Applied Materials (AMAT)
• Тип: Реактор химического осаждения из паровой фазы (CVD)
• Температурный диапазон: от комнатной температуры до 1000 °C.
• Совместимые материалы: кремний, сапфир, кварц, стекло.
• Материалы для осаждения: нитрид кремния, диоксид кремния, нитрид алюминия и т. д.
• Методы нагрева: электронная бомбардировка, индукционный нагрев и другие источники.

Функции

• Камера с контролируемой температурой. Реакционная камера предназначена для точного термоконтроля и поддерживает функции нагрева и охлаждения для оптимального осаждения пленки.
• Система газового контроля. Блок газового контроля подает точное количество газа в реакционную камеру во время процесса осаждения, обеспечивая точный контроль качества тонкой пленки.
• Источник осаждения: Источник осаждения обеспечивает контролируемую подачу материала в реакционную камеру, где он осаждается на подложку.
• Универсальные датчики нагрева: Реактор оснащен нагреваемыми или охлаждаемыми магнитными датчиками, способными использовать различные методы нагрева, такие как бомбардировка электронами и индукционный нагрев.
• Совместимость нескольких материалов: Реактор предназначен для нанесения пленок на широкий спектр подложек, включая кремний, сапфир, кварц и стекло.
• Тонкопленочные материалы: он может наносить различные тонкие пленки, такие как нитрид кремния, диоксид кремния и нитрид алюминия, что делает его универсальным для различных применений.
• Удобный дизайн: Реактор имеет интуитивно понятный компьютерный интерфейс и предлагает как автоматические, так и ручные варианты управления для удобства пользователя.
• Точный контроль: он обеспечивает точный контроль температуры, расхода газа и скорости осаждения, что делает его идеальным для широкого спектра применений в полупроводниковой, оптоэлектронной и фотомеханической промышленности.
• Надежная механическая конструкция. Реактор, изготовленный из прочных материалов и прочной механической конструкции, обеспечивает безопасную и надежную работу.