АМАТ 0041-75950 Реактор за хемијско таложење из паре

Опис

<стронг>АМАТ 0041-75950 је реактор за таложење хемијском паром (ЦВД), дизајниран као реактор за грејање или хлађење са контролисаном температуром за таложење танког филма. Користи се за наношење конформних и униформних филмова на различите подлоге. Реактор се састоји од реакционе коморе затворене у вакуумски затвореној посуди, омогућавајући прецизну термичку контролу и ефикасан пренос материјала. Ова опрема ради у температурном опсегу од собне температуре до 1000°Ц, омогућавајући таложење разних танкослојних материјала.

Спецификације

• Модел: 0041-75950
• <стронг>Произвођач: Примењени материјали (АМАТ)
• <стронг>Тип: Реактор за хемијско таложење из паре (ЦВД).
• <стронг>Опсег температуре: Собна температура до 1000°Ц
• <стронг>Компатибилне подлоге: силицијум, сафир, кварц, стакло
• <стронг>Материјал за таложење: Силицијум нитрид, силицијум диоксид, алуминијум нитрид и још много тога
• <стронг>Методе грејања: бомбардовање електронима, индукционо грејање и други извори

Карактеристике

• <стронг>Комора са контролом температуре: Реакциона комора је дизајнирана за прецизну термичку контролу, подржавајући функције грејања и хлађења за оптимално таложење филма.
• <стронг>Систем за контролу гаса: Јединица за контролу гаса испоручује тачну количину гаса у реакциону комору током процеса таложења, обезбеђујући прецизну контролу над квалитетом танког филма.
• <стронг>Извор таложења: Извор таложења обезбеђује контролисано снабдевање материјала у реакционој комори, где се одлаже на подлогу.
• <стронг>Свестрани сензори за грејање: Реактор је опремљен загрејаним или хлађеним магнетним сензорима, који могу да користе различите методе грејања као што су бомбардовање електронима и индукционо загревање.
• <стронг>Компатибилност са више материјала: Реактор је дизајниран за одлагање филмова на широк спектар подлога, укључујући силицијум, сафир, кварц и стакло.
• <стронг>Тин филмски материјали: Може да одложи различите танке филмове као што су силицијум нитрид, силицијум диоксид и алуминијум нитрид, што га чини разноврсним за различите примене.
• <стронг>Дизајн прилагођен кориснику: Реактор има интуитиван рачунарски интерфејс и нуди опције аутоматизованог и ручног рада за удобност корисника.
• <стронг>Прецизна контрола: Омогућава прецизну контролу над температуром, протоком гаса и стопама таложења, што га чини идеалним за широк спектар примена у полупроводничкој, оптоелектронској и фотомеханичкој индустрији.
• <стронг>Робусни механички дизајн: Направљен од издржљивих материјала и чврстог механичког дизајна, реактор обезбеђује безбедан и поуздан рад.