AMAT 0041-75950 ķīmiskās tvaiku pārklāšanas reaktors

Apraksts

AMAT 0041-75950 ir ķīmiskās tvaiku pārklāšanas (CVD) reaktors, kas paredzēts kā temperatūras regulējamas sildīšanas vai dzesēšanas reaktors plānslāņa nogulsnēšanai. To izmanto konformālu un viendabīgu plēvju uzklāšanai uz dažādām pamatnēm. Reaktors sastāv no reakcijas kameras, kas ir ievietota vakuumā noslēgtā tvertnē, nodrošinot precīzu termisko kontroli un efektīvu materiāla pārnesi. Šī iekārta darbojas temperatūras diapazonā no istabas temperatūras līdz 1000°C, ļaujot uzklāt dažādus plānslāņa materiālus.

Specifikācijas

• Modelis: 0041-75950
• Ražotājs: lietišķie materiāli (AMAT)
• Veids: ķīmiskās tvaiku pārklāšanas (CVD) reaktors
• Temperatūras diapazons: istabas temperatūra līdz 1000°C
• Saderīgi substrāti: silīcijs, safīrs, kvarcs, stikls
• Nogulsnēšanas materiāli: silīcija nitrīds, silīcija dioksīds, alumīnija nitrīds un citi
• Karsēšanas metodes: elektronu bombardēšana, indukcijas karsēšana un citi avoti

Iespējas

• Temperatūru kontrolējama kamera: reakcijas kamera ir paredzēta precīzai termiskai kontrolei, nodrošinot gan sildīšanas, gan dzesēšanas funkcijas optimālai plēves nogulsnēšanai.
• Gāzes kontroles sistēma: gāzes vadības bloks nogulsnēšanas procesa laikā piegādā precīzu gāzes daudzumu reakcijas kamerā, nodrošinot precīzu plānās kārtiņas kvalitātes kontroli.
• Nogulsnēšanās avots: nogulsnēšanās avots nodrošina kontrolētu materiāla piegādi reakcijas kamerā, kur tas tiek nogulsnēts uz pamatnes.
• Daudzpusīgi sildīšanas sensori: reaktors ir aprīkots ar apsildāmiem vai atdzesētiem magnētiskiem sensoriem, kas spēj izmantot dažādas sildīšanas metodes, piemēram, elektronu bombardēšanu un indukcijas sildīšanu.
• Vairāku materiālu saderība: reaktors ir paredzēts, lai uzklātu plēves uz plaša spektra substrātu, tostarp silīcija, safīra, kvarca un stikla.
• Plānās plēves materiāli: var uzklāt dažādas plānas kārtiņas, piemēram, silīcija nitrīdu, silīcija dioksīdu un alumīnija nitrīdu, padarot to daudzpusīgu dažādiem lietojumiem.
• Lietotājam draudzīgs dizains: reaktoram ir intuitīvs datora interfeiss, un lietotāja ērtībai tiek piedāvātas gan automatizētas, gan manuālas darbības iespējas.
• Precīza vadība: tā nodrošina precīzu temperatūras, gāzes plūsmas un nogulsnēšanās ātruma kontroli, padarot to ideāli piemērotu plašam lietojumu klāstam pusvadītāju, optoelektronikas un fotomehānikas nozarēs.
• Izturīgs mehāniskais dizains: izgatavots no izturīgiem materiāliem un stingras mehāniskās konstrukcijas, reaktors nodrošina drošu un uzticamu darbību.